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“不是，研究光刻机的项目组怎么会解散？”
江晟有些难以置信。
虽然在另一个世界，被西方用芯片卡脖子，是两年后才发生的事，此时还没有明显迹象。
但上面从未没有放弃过这项堪称半导体“工业母机”的重器。
从1966年研制出首台65型接触式光刻机，到1991研制出第三代自动对准分布投影光刻机，技术一直在进步。
只是到了90年代后期，国外光刻机技术发展太快，国内才开始逐渐掉队。
但自2010年开始，随着半导体产业的重要程度日益显现，光刻机的研发也重新受到重视。
若没有这些基础，后来也不可能实现28nm国产光刻机的量产，和5nm光刻技术的实质性突破。
两个世界虽然似是而非，不尽相同，但不至于在这种战略性发展方向有巨大差异才对。
然而，对于儿子的疑问，江母只是漫不经心地回了一句：
