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这一成果展示了他卓越的科研能力和创新精神，使他在国际上获得了广泛关注，提升了他在相关领域的知名度和影响力，为他积累了宝贵的技术资本和国际合作经验。
吴汉明加盟英特尔担任主任工程师，英特尔作为全球半导体行业的领军企业，拥有最先进的技术和管理理念。在英特尔工作，让吴汉明有机会接触到世界顶级的芯片制造技术和工艺，深入了解行业前沿动态和发展趋势，同时也学习到了先进的企业管理经验，为他回国后推动国内集成电路产业发展提供了借鉴。
吴汉明进入中芯国际，担任技术总监等职务。
他在中芯国际组建了先进刻蚀技术工艺部，领导了0.13微米刻蚀工艺，在中国实现了用于大生产的双镶嵌法制备工艺，为中国首次实现铜互连提供了工艺基础。
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他还主持和参与了多项国家重大专项，推动了中国130 - 22纳米工艺技术研发，带领中芯国际在芯片制造技术上取得了重大突破，使中国芯片制造水平逐步缩小与国际先进水平的差距，为中国集成电路产业发展做出了卓越贡献。
吴汉明受聘为湖北大学微电子学院名誉院长，后来又担任浙江大学集成电路学院院长。
他将自己丰富的实践经验和前沿的学术理念融入到教学和学科建设中，为培养集成电路领域的专业人才贡献力量，推动相关学科的发展，也进一步提升了他在教育和学术领域的影响力，促进了产学研的深度融合。
总的来说，吴汉明院士在不同工作阶段的积累和成就，为他后来当选中国工程院院士奠定了坚实的基础。
后记
